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CVD Equipment Corp從事開發、設計、製造和維修一系列化學氣相沉積、氣體控制和其他設備和解決方案。該公司的部門包括 CVD/First Nano、SDC 和 CVD 材料。CVD/First Nano 提供化學氣相沉積系統,用於航空航天、醫療部件、半導體、發光器件 (LED)、電池納米材料、碳納米管、納米線、太陽能電池和許多其他工業應用領域。 SDC 部門為半導體製造工藝、太陽能電池、LED、碳納米管和納米線設計和製造超高純度氣體和化學品輸送控制系統。CVD 材料部門包括元素和產品組,例如Tantaline和MesoScribe。鉭處理是通過化學氣相沉積在普通材料表面形成的擴散結合的鉭保護層。
名稱 | 年齡 | 成立於 | 主旨 |
---|---|---|---|
Emmanuel N. Lakios | 61 | 2017 | President, CEO & Director |
Robert M. Brill | 77 | 2021 | Independent Director |
Raymond A. Nielsen | 72 | 2016 | Independent Director |
Lawrence J. Waldman | 77 | 2016 | Independent Non-Executive Chairman |
Ashraf Lotfi | 63 | 2023 | Independent Director |
Debra A. Wasser | 59 | 2023 | Independent Director |
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