智通財經APP獲悉,美光(MU.US)日前宣布, 2021財年的資本支出將超過95億美元,這比早些時候提出的90 億美元目標增加了5億美元。據悉,增加部分主要是美光向ASML采購極紫外(EUV)光刻機的預付款。
美光計劃在今年年底安裝 ASML新一代 EUV 光刻機 3600D。在將新設備正式投入量産之前,該公司預計會先在量産線上進行試驗。
美光表示,計劃從2024年開始,將EUV納入DRAM開發路線圖。此前,叁星、SK海力士已投入EUV DRAM。
值得關注的是,隨着全球叁大 DRAM 制造商叁星電子、SK海力士及美光加碼投資EUV光刻設備,圍繞EUV光刻設備的采購競爭將更加激烈,ASML的訂單也將變得更加搶手。