智通財經APP獲悉，TrendForce集邦咨詢發文稱，阿斯麥(ASML.US)位于德國柏林的一處工廠于當地1月3日發生火警，該企業主要爲晶圓代工及存儲器生産所需關鍵設備機台（包含EUV與DUV）的最大供應商，占地32,000平方米的柏林廠區中，約200平方米廠區受火災影響。而該廠區主要制造光刻機中所需的光學相關零部件，例如晶圓台、光罩吸盤和反射鏡，其中用以固定光罩的光罩吸盤處于緊缺狀態。目前該廠零部件以供應EUV機台較多，且以晶圓代工的需求占多數。若屆時因火災而造成零部件交期有所延後，不排除ASML將優先分配主要的産出支援晶圓代工訂單的可能性。
晶圓代工方面，EUV主要使用于7nm以下的先進制程制造。目前全球僅台積電(TSM.US)與叁星使用該設備進行制造，包括TSMC 7nm、5nm、3nm制程工藝，Samsung于韓國華城建置的EUV Line（7nm、5nm及4nm）以及3nm GAA制程工藝等。不過，受到全球晶圓代工産能緊缺、各廠積極擴廠等因素影響，半導體設備交期也越拉越長。
DRAM方面，目前叁星及SK海力士（SK hynix）已使用在1Znm及1alpha nm制程上，美系廠商美光(MU.US)則預計于2024年導入EUV于1gamma nm制程。根據TrendForce集邦咨詢目前掌握，ASML EUV設備的交期落在約12~18個月，也因爲設備交期較長，ASML有機會在設備組裝時間等待該工廠所損失的相關零部件重新制造完成。
整體而言，ASML德國柏林工廠火災對晶圓代工及存儲器而言，將可能對EUV光刻機設備制造産生較大影響。而根據TrendForce集邦咨詢的消息掌握，ASML所需的零部件亦不排除透過其他廠區取得，加上目前EUV設備交期相當長，因此，實際對EUV供應的影響仍有待觀察。