智通財經APP獲悉，據報道，日本國家研究院正與英特爾(INTC.US)合作，在日本建立一個半導體技術研發中心。外媒援引知情人士報道稱，新設備預計將在三到五年內建成，將包括極紫外光刻(EUV)設備。
報道補充說，製造設備和材料的公司將支付一筆費用，以使用該設施進行原型設計和測試。據悉，英特爾預計將提供利用EUV技術製造芯片的專業知識，而日本國家先進工業科學技術研究所(National Institute of Advanced Industrial Science and technology)將運營該設施。該設施的總投資預計將達到數億美元。英特爾沒有立即迴應置評請求。
此前一天，英特爾首席執行官帕特里克•蓋爾辛格(Patrick Gelsinger)和其他一些關鍵高管稱，預計將在本月晚些時候向董事會提交一份剝離不必要業務和削減資本支出的計劃。據悉，此次計劃將包括如何通過出售包括可編程芯片部門Altera在內的業務以實現總體降本的想法。
英特爾近來一直在着力解決成本問題，該公司此前公佈的第二季度業績和指引遠低於預期，同時該公司表示將裁員15%並暫停派息，以降低支出。隨後該股大跌，其市值已跌至1000億美元以下。