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財通證券:光刻環節關鍵材料 國產掩膜版大有可爲

發布 2024-3-8 下午04:08
© Reuters.  財通證券:光刻環節關鍵材料 國產掩膜版大有可爲

智通財經APP獲悉,財通證券發佈研究報告稱,面板產業鏈向國內轉移,帶動相關掩膜版材料保持高增。130nm及以下半導體掩膜版國產化處於起步期,市場空間廣闊。建議關注:路維光電(688401.SH)、清溢光電(688138.SH)、冠石科技(605588.SH)等。

▍財通證券主要觀點如下:

掩膜版行業市場規模廣闊,在半導體材料板塊中僅次於硅片的第二大賽道:

全球範圍來看,半導體掩膜版市場規模穩步增長,2018年達40.4億美元,2022年增長至49.0億美元,2018-2022年市場規模CAGR近5%。按製程來看,2022年全球半導體掩膜版出貨結構主要集中在28nm以上成熟製程領域,2022年130nm以上、28-90nm、28nm以下製程市場份額佔比分別爲54%、 33%、13%。

掩膜版逆週期屬性可熨平半導體週期,保持賽道平穩增長:

大部分半導體材料需求週期緊跟晶圓廠稼動率週期,因此在半導體需求下行週期時,半導體材料普遍出現量價齊跌狀態。掩膜版作爲光刻環節非耗材產品,主要掛鉤下游新產品開發需求,而非產品需求。當晶圓廠需求低迷時,空出的產能促進新芯片設定方案的加速,芯片設計公司將通過設計新產品刺激市場,提升銷量,進而帶來對掩膜版的增量需求。

第三方掩膜版廠將承接更多28nm及以上的成熟製程訂單:

對於28nm以下先進製程掩膜版,由於技術難度高、生產工藝複雜等問題,晶圓廠所需掩膜版主要依靠內部Inhouse工廠,如臺積電、英特爾、中芯國際Inhouse廠分別可以量產製程3nm、7nm、14nm半導體掩模板。對於成熟製程而言,第三方掩膜版廠商能充分發揮技術專業化、規模化優勢,具有更顯著的規模經濟效益,因此在結合降成本及市場效率的情況下,晶圓廠一般更傾向於向獨立第三方掩膜版廠商採購成熟製程掩膜版。

風險提示:

面板新開模需求不及預期;電子束直寫光刻機採購進度不及預期;海外龍頭廠商競爭風險。

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