格隆匯3月2日丨聯華電子發佈28納米嵌入式高壓(eHV)製程之最新加強版28eHV+平台。相較於聯電現有的28納米eHV製程,聯電錶示,新的28eHV+解決方案可在不影響圖像畫質或資料速率的前提下,降低耗能達15%。聯電技術研發副總經理徐世傑表示,目前已有幾家客户在洽談中,並計劃今年上半年投入量產。
格隆匯3月2日丨聯華電子發佈28納米嵌入式高壓(eHV)製程之最新加強版28eHV+平台。相較於聯電現有的28納米eHV製程,聯電錶示,新的28eHV+解決方案可在不影響圖像畫質或資料速率的前提下,降低耗能達15%。聯電技術研發副總經理徐世傑表示,目前已有幾家客户在洽談中,並計劃今年上半年投入量產。