智通財經APP獲悉，據報道，應用材料(AMAT.US)已開始銷售一種芯片制造機器，旨在減少行業對阿斯麥(ASML.US)的依賴，並以更低廉的價格生産能夠處理人工智能任務的先進芯片。
這款名爲Centura Sculpta的圖形成型系統可幫助客戶減少光刻時間。應用材料表示，光刻技術日益複雜且成本昂貴，新的方法可簡化芯片生産流程，同時減少浪費。
分析評論道，此舉可能會擾亂阿斯麥機器主導的光刻機市場。盡管應用材料並沒有直接挑戰該公司，但它正試圖重新思考該行業制造芯片(即通過在矽片上沉積材料而制造的微型電子元件)的方式。
如今，隨着電路尺寸縮小到比大多數光源的波長還小，光刻工藝階段變得越來越困難。
阿斯麥的極紫外線(EUV)光刻機能夠處理尖端半導體的生産任務，這是這家荷蘭公司利潤豐厚的收入來源。自2019年以來，阿斯麥的銷售額幾乎翻了一番，預計今年的營收將增長25%。相比之下，芯片設備的其他行業正因客戶應對庫存過剩而面臨銷售萎縮。
在這個每台設備的成本都能輕松超過1000萬美元的行業中，阿斯麥的産品是行業中最昂貴的機器之一。但該公司的制造芯片方法有缺點，因爲芯片的某些部分需要所謂的多重成像(Multiple Patterning)。
而應用材料的新機器則將通過使用電激活的化學技術來完成這部分過程，從而消除對部分多重成像的需求。
應用材料高管Prabu Raja在一份聲明中表示，這一想法旨在“補充”紫外光刻技術，“同時也應對先進芯片制造日益增長的經濟和環境挑戰”。
Cowen & Co.分析師Krish Sankar對此表示，新工具有望爲應用材料的年銷售額增加2億至3億美元，但短期內不會削弱阿斯麥的極紫外線光刻機業務收入。
據應用材料稱，采用該系統的芯片制造商如果運行一條每月加工10萬片晶圓的生産線，將節省多達2.5億美元的資本成本。每片晶圓的成本將減少約50美元，所需能源也將減少15千瓦時。該公司表示，該系統還將減少15升水的需求，減少0.35千克的二氧化碳排放。
新産品主要針對的是生産被稱爲先進邏輯的大型複雜芯片，如用于人工智能的英偉達(NVDA.US)的圖形處理器。目前，只有叁家公司專門從事這類生産：台積電(TSM.US)、叁星電子和英特爾(INTC.US)。叁家公司加起來占了芯片制造商設備的大部分支出，占應用材料和阿斯麥銷售額的一半以上。
而應用材料稱，英特爾已經采用了這種新方法。“英特爾將部署模式塑造能力，以幫助我們降低設計和制造成本、工藝周期和環境影響，”英特爾高管Ryan Russell在聲明中表示。